中國電子級試劑產業發展歷程

      電子集成電路對超凈高純化學品的要求高且使用量大。但該類化學品貯存有效期短，其純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能及可靠性影響重大。隨著電子集成電路向大規模和超大規模、極大規模的發展，(IC—LSIC—VLSIC—ULSIC)，芯片集成度越來越高，晶圓表面的光刻線條越來越精細，IC的 更新換代速度越來越快，ULSI對超凈高純化學品也提出了越來越嚴格的質量要求和分析檢測要求。1975年，美國的國際半導體設備與材料協會 (Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI)首先為微電子工業配套的超凈高純化學品制定了國際統一標準(SEMI標準)：1978年，德國的伊默克公司也制定 了MOS標準 兩種標準對超凈高純化學品中金屬雜質和微粒(塵埃)的要求各有側重。分別適用于不同級別IC的制作要求 ULSI在全球的快速發展使得這些標準的指標有逐步接近的趨勢，但SEMI標準更早取得世界范圍內的普遍認可。
　　目前，中國已成為世界IT工業和液晶顯示器(LCD)需求增長最快的國家。2011年中國將成為世界重要的集成電路制造基地之一。“十一五”期間， 中國電子化學品年均增長率超過20%，2015年保守估計市場銷售總額將達到400億至 450億元．中國的高端電子市場正在不斷擴大，長期成長空間巨大，已成為化工行業中發展速度最快、最具活力的行業之一。而與之配套的超凈高純試劑的需求也是逐步增加，電子級硫酸的消耗量約占高純試劑總量的30% ，電子級硫酸的市場需求前景廣闊。